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钕铁硼永磁体的焦磷酸盐脉冲电镀铜方法

摘要

一种钕铁硼永磁体的焦磷酸盐脉冲电镀铜方法,其电镀铜工艺及电镀液配方如下:电镀液配方,硫酸铜60-100克/升;焦磷酸钾200-400克/升氨水0.2-3毫升/升;光亮剂0.2-3毫升/升;润湿剂1-5毫升/升;铜离子10-25克/升,焦磷酸根∶铜离子比值6.5-8.8∶1。电镀铜工艺参数,温度38-50摄氏度;pH值7-9;平均电流密度0.2-1.5安培/平方分米;电流波形为方波;电流脉冲宽度,导通0.1-2.5毫秒,关断0.2-5.5毫秒。该工艺用无氰镀铜溶液,无毒、低污染、高效率、镀层好、价格低。

著录项

  • 公开/公告号CN1566406A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2005-01-19

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 天津市磁强技术发展有限公司;

    申请/专利号CN03130244.0

  • 发明设计人 刘伟;

    申请日2003-06-24

  • 分类号C25D3/38;C25D5/18;

  • 代理机构天津才智专利商标代理有限公司;

  • 代理人刘东华

  • 地址 300251 天津市金钟河大街赵沽里道11号

  • 入库时间 2023-12-17 15:51:36

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2007-02-28

    发明专利申请公布后的视为撤回

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2005-01-19

    公开

    公开

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