首页> 中国专利> 为了改进的焊剂清洗在外壳容器和小硅片之间有较大间隙的高压半导体装置壳体

为了改进的焊剂清洗在外壳容器和小硅片之间有较大间隙的高压半导体装置壳体

摘要

示出和叙述了一半导体装置,该装置包括在其一内部接纳一半导体小硅片的一金属容器。金属容器具有形成在其顶部上的一凹槽。该凹槽提供对金属容器的顶部的刚性,以允许容器的壁进一步与小硅片分开,从而提供一大得多的敞开通道,该通道便于在焊接之后易于洗净残留的焊剂。

著录项

  • 公开/公告号CN1516897A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2004-07-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 国际整流器有限公司;

    申请/专利号CN02812177.5

  • 发明设计人 M·斯塔恩丁;

    申请日2002-06-14

  • 分类号H01L23/48;

  • 代理机构上海专利商标事务所;

  • 代理人吴明华

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2023-12-17 15:26:25

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-06-02

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L23/48 授权公告日:20070307 终止日期:20190614 申请日:20020614

    专利权的终止

  • 2018-10-23

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):H01L23/48 变更前: 变更后: 申请日:20020614

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2007-03-07

    授权

    授权

  • 2004-09-29

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2004-07-28

    公开

    公开

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