法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2010-01-20
专利权的终止(未缴年费专利权终止)
专利权的终止(未缴年费专利权终止)
2006-11-15
授权
授权
2004-08-18
实质审查的生效
实质审查的生效
2004-06-09
公开
公开
机译: 诸如只读存储器之类的非易失性存储器件的制造包括在半导体衬底上顺序形成栅极氧化物层,用于第一控制栅极的多晶硅层,缓冲氧化物层和缓冲氮化物层。
机译: 具有电介质厚度控制的浮栅存储设备-在两个栅极之间使用在一个方向上重叠的氧化物-氮化物-氧化物介电层以增加电容
机译: 用于控制通过点火板的电流的电子设备具有金属氧化物半导体晶体管,该金属氧化物半导体晶体管在公共栅极节点处与栅极耦合并且在接地时与源极连接