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公开/公告号CN1464916A
专利类型发明专利
公开/公告日2003-12-31
原文格式PDF
申请/专利权人 西加特技术有限责任公司;
申请/专利号CN01812239.6
发明设计人 J·W·赫恩;J·W·戴克斯;J·E·安杰洛;W·D·莫斯利;R·T·格林利;B·W·卡尔;
申请日2001-05-31
分类号C23C14/24;C23C14/06;C23C14/46;C23C16/46;C23C14/30;C01B31/02;C30B23/02;
代理机构上海专利商标事务所;
代理人周承泽
地址 美国加利福尼亚州
入库时间 2023-12-17 15:05:30
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2006-09-06
发明专利申请公布后的视为撤回
2004-03-10
实质审查的生效
2003-12-31
公开
机译: 制备超薄保护涂层的方法
机译: 超薄石墨烯片,制备超薄石墨烯片的装置,制备超薄石墨烯片的方法,电容器和制造电容器的方法
机译:聚二甲基硅氧烷作为用于制备超薄芯片的聚合物保护涂层
机译:从硼酸盐缓冲 - 十二烷基膦酸溶液中形成超薄保护涂层的低碳保护涂层
机译:化学溶液-方法制备超薄针头和超薄纳米带的ZnO纳米棒
机译:表面制备方法和保护涂层对水压载荷罐勃起关节焊缝性能的影响
机译:超薄保护涂层的制备及X射线光电子能谱和光谱椭圆形分析
机译:在200°C沉积的原子层沉积氧化铝和二氧化钛超薄保护涂层的内聚和分层疲劳性能比较
机译:用于高温气相色谱分析的石英毛细色谱柱新型聚酰亚胺保护涂层的新型聚酰亚胺保护涂层的制备及热评价
机译:Dobrolubov和Romer硬化混凝土显微镜检验方法的评价和改进:用于制备和检查荧光超薄切片的方法和设备。