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超解析光盘母膜、光盘原膜及其工艺

摘要

一种超解析光盘母膜,主要由一基板、一超解析结构以及一图案化的光阻层构成。其中,超解析结构配置于基板与图案化光阻层之间。本发明的光盘母膜在制作时先将超解析结构形成于基板上,然后才形成光阻层于超解析结构上。上述工艺不会有使光阻层预先曝光的问题。此外,上述工艺所制作出的光盘母膜不会有薄膜微粒造成表面粗糙的问题,而以光盘母膜所制作的光盘原膜也不会有表面粗糙的问题。

著录项

  • 公开/公告号CN1453779A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2003-11-05

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 铼德科技股份有限公司;

    申请/专利号CN02118601.4

  • 发明设计人 陈炳茂;

    申请日2002-04-25

  • 分类号G11B7/26;

  • 代理机构北京集佳专利商标事务所;

  • 代理人王学强

  • 地址 台湾省新竹县湖口乡新工业区光复北路42号

  • 入库时间 2023-12-17 15:01:15

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2008-06-25

    专利权的终止(未缴年费专利权终止)

    专利权的终止(未缴年费专利权终止)

  • 2006-01-25

    授权

    授权

  • 2004-04-28

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2003-11-05

    公开

    公开

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