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单元件技术的电解槽用电化学池

摘要

本发明涉及一种用于隔膜电解法的单元件技术的电解槽用电化学池。所述池组成如下:至少两个半壳体(8,10),该半壳体围绕其间设置有隔膜(5)的阳极电解液室(16)和阴极室(22);位于阳极电解液室(16)中的阳极(6),而在阴极室(22)中设置有耗氧阴极(4),其中具有以一个在另一个之上的方式排布的许多压力补偿气袋(15);阴极电解液间隙(14)和任选地后室(19),其特征在于,导电支撑元件(7)设置在阳极电解液室(16)中,而支撑元件(3,2,1)的同样互相相对的位置设置在阴极室(22)中。

著录项

  • 公开/公告号CN1408032A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2003-04-02

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 拜尔公司;

    申请/专利号CN00816662.5

  • 发明设计人 F·格斯特曼;

    申请日2000-11-20

  • 分类号C25B9/00;

  • 代理机构中国专利代理(香港)有限公司;

  • 代理人王景朝

  • 地址 德国莱沃库森

  • 入库时间 2023-12-17 14:40:20

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2011-02-02

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C25B9/00 授权公告日:20060607 终止日期:20091221 申请日:20001120

    专利权的终止

  • 2006-06-07

    授权

    授权

  • 2003-06-11

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2003-04-02

    公开

    公开

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