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搪瓷设备中搪瓷壁的局部补瓷方法

摘要

本发明属于搪瓷产品的制造领域。特别适用于在大型搪瓷设备中,对残损、破碎的搪瓷壁进行局部的补瓷方法。该方法是由清理被补瓷处表面、补瓷釉、焙烧处理、二次补瓷釉和焙烧处理等工序组成,其特征在于对搪瓷壁修补瓷处经补瓷釉后再采用梯度等温降温进行焙烧瓷釉,其工艺可以是修补底釉、面釉和二次补瓷釉等程序。采用本发明的梯度等温降温方式焙烧修补搪瓷壁与现有技术相比较,具有很好的修补效果,而且还有操做方便、可靠和经济等特点。

著录项

  • 公开/公告号CN1381610A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2002-11-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 阎正楷;

    申请/专利号CN02117116.5

  • 发明设计人 阎正楷;

    申请日2002-04-19

  • 分类号C23D13/00;

  • 代理机构北京科大华谊专利代理事务所;

  • 代理人金向荣

  • 地址 100022 北京市朝阳区垂杨柳东里14楼1门1号

  • 入库时间 2023-12-17 14:27:51

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2009-06-17

    专利权的终止(未缴年费专利权终止)

    专利权的终止(未缴年费专利权终止)

  • 2004-06-16

    授权

    授权

  • 2003-02-19

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2002-11-27

    公开

    公开

  • 2002-08-28

    实质审查的生效

    实质审查的生效

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