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去除表面污染物的方法以及为此所使用的组合物

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采用一种含水组合物从表面例如含有铜波纹或双重波纹元件的半导体晶片上去除颗粒状和金属离子污染物,该含水组合物包含:含氟化物的化合物、二羧酸和/或它的盐,以及羟基羧酸和/或它的盐。

著录项

公开/公告号CN1360733A

专利类型发明专利
公开/公告日2002-07-24

原文格式PDF
申请/专利权人阿什兰公司;
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申请/专利号CN00808091.7
发明设计人埃米尔·A·克内尔;
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申请日2000-05-23
分类号H01L21/00;
代理机构永新专利商标代理有限公司;
代理人过晓东
地址美国俄亥俄州
入库时间 2023-12-17 14:23:40

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2012-07-25

未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L21/00 授权公告日:20040721 终止日期:20110523 申请日:20000523

专利权的终止
2004-07-21

授权

授权
2002-07-24

公开

公开
2002-07-03

实质审查的生效

实质审查的生效

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