用于带电粒子束的局部集团掩模

摘要

本发明的带电粒子束曝光的局部集团掩膜能够易于再成型,以便消除揿钮接头(snapping),不合格接触拉丝和其它的严重错误。掩模不仅形成有由主图形或器件图形构成的开口,还有由辅助图形构成的开口。当任何一个主图形具有不足设计尺寸的尺寸且易于引起揿钮接头或相似严重错误时,上述不合格图形和邻接它的辅助图形就连在一起以修正该尺寸。