法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2000-03-29
专利申请的视为撤回
专利申请的视为撤回
1997-12-10
公开
公开
机译: 用于形成平面绝缘膜的涂布液,涂布有平面绝缘膜的基板以及涂布有平面绝缘膜的基板的制造方法
机译: 用于制造例如光刻胶的微光刻工具。半导体芯片,具有投射物镜,该投射物镜具有反射镜,该反射镜布置成将从位于目标平面的标线片反射的辐射引导至位于像平面的基板
机译: (54)标题:用于冲击钻削的钻头的硬质金属插入件和磨削硬金属插入件的方法(57)摘要:本发明包括一种硬金属嵌件(1),该硬质金属嵌件(1)包括在用于钻削的钻头中。冲击钻,其插入件包括一个盖(2),该盖(2)构成一个磨损部分,该磨损部分包括一个磨损表面(2a)和一个圆柱形部分(3),该圆柱形部分构成一个具有横截面积(A)和直径( D)盖(2)包括前部(4),该前部具有从插入件的磨损表面(2a)上的第一点(a)沿着插入件的对称轴(x)延伸的高度(H)。帽到帽中的第二个点(b)。前部部分(4)在第一平面(I)与第二平面(II)之间形成一个体积(Vf),该平面与对称轴(x)成直角相交。 ,它在第二点(b)与对称轴(x)成直角相交。体积(VI)大于或等于横截面a的0.6倍