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用于精密光学系统或光学部件的无放射性特别是无FCKW的清洗方法

摘要

一种用于精密光学系统的无放射性清洗方法,包括以下步骤:(a)预处理过程,以建立了槽的环流及精过滤;(b)借助于紫外线辐射或高加速度电子或辉光放电,在一定压力的O

著录项

  • 公开/公告号CN1071860A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日1993-05-12

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 莱卡显微及系统有限公司;

    申请/专利号CN92105917.5

  • 申请日1992-06-19

  • 分类号B08B11/00;B08B3/12;

  • 代理机构中国专利代理(香港)有限公司;

  • 代理人肖掬昌

  • 地址 联邦德国韦茨拉尔

  • 入库时间 2023-12-17 12:19:01

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 1998-07-15

    专利申请的驳回

    专利申请的驳回

  • 1994-04-27

    实质审查请求的生效

    实质审查请求的生效

  • 1993-05-12

    公开

    公开

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