首页> 中国专利> 一种除去沉积在化学气相沉积反应器反应室内的不须要的碳产物的方法

一种除去沉积在化学气相沉积反应器反应室内的不须要的碳产物的方法

摘要

沉积碳膜后清理化学气相反应器内部。当结晶的碳或象金刚石的碳在反应室内形成时,在反应室内有不需要的沉积物。利用氧气或氧化合物气体而不是利用对反应器内部有损坏作用的氟或氟化合物气体,通过侵蚀,将粘性的碳沉积除去。

著录项

  • 公开/公告号CN88101465A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日1988-10-05

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 株式会社半导体能源研究所;

    申请/专利号CN88101465

  • 发明设计人 山崎舜平;

    申请日1988-02-24

  • 分类号C23C16/26;C23C16/56;

  • 代理机构中国专利代理有限公司;

  • 代理人杨丽琴

  • 地址 日本神奈川县

  • 入库时间 2023-12-17 12:02:14

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 1990-06-20

    实质审查请求

    实质审查请求

  • 1988-10-05

    公开

    公开

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