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基板处理装置、基板处理方法以及计算机可读取记录介质

摘要

涂布显影装置具备:第一激光单元,其对涂布液照射激光光,并基于该激光光的变化来获取涂布液的状态;以及可否照射决定机构,其基于流路中的、比从第一激光单元向涂布液照射激光光的部位更靠液瓶一侧的涂布液,来决定第一激光单元可否照射向涂布液的激光光,其中,可否照射决定机构具有获取涂布液的颜色信息的第二激光单元和控制器,其中,控制器构成为执行以下处理:判定涂布液的颜色信息是否为容易吸收通过第一激光单元照射的光的波长的规定的颜色信息;以及基于判定结果来决定可否照射向涂布液的激光光。

著录项

  • 公开/公告号CN111527586A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-08-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 东京毅力科创株式会社;

    申请/专利号CN201880083302.6

  • 发明设计人 松山晃;

    申请日2018-12-14

  • 分类号H01L21/027(20060101);G01N21/27(20060101);G03F7/20(20060101);

  • 代理机构11277 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人刘新宇

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2023-12-17 11:45:16

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-08-11

    公开

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