首页> 中国专利> 一种不同陪衬版图环境的电阻模型及其提取方法

一种不同陪衬版图环境的电阻模型及其提取方法

摘要

本发明提供一种不同陪衬版图环境的电阻模型及其提取方法,设计不同周围环境的电阻结构;对电阻结构进行阻值测量,得到电阻结构的阻值随函数F1中某个参数的变化曲线;建立关于函数F1的基本电阻模型,通过调节基本电阻模型参数将步骤二中得到的变化曲线与基本电阻模型参数进行拟合;建立关于函数F2的环境相关的电阻模型,通过调节环境相关的电阻模型参数将步骤二中得到的变化曲线与环境相关的电阻模型参数进行拟合;将拟合后得到的电阻模型进行验证。本发明在原有尺寸、电压相关的电阻模型的基础上,增加了与周围环境相关的函数,可以更加准确表征电阻在不同周围环境下的特性,建立更为精准且实用性更广的电阻模型。

著录项

  • 公开/公告号CN111507052A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-08-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海华力集成电路制造有限公司;

    申请/专利号CN202010336878.8

  • 发明设计人 张瑜;商干兵;

    申请日2020-04-26

  • 分类号G06F30/33(20200101);

  • 代理机构31211 上海浦一知识产权代理有限公司;

  • 代理人戴广志

  • 地址 201203 上海市浦东新区康桥东路298号1幢1060室

  • 入库时间 2023-12-17 11:41:09

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-08-07

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号