公开/公告号CN111491119A
专利类型发明专利
公开/公告日2020-08-04
原文格式PDF
申请/专利权人 上海微阱电子科技有限公司;
申请/专利号CN202010322491.7
发明设计人 何学红;
申请日2020-04-22
分类号
代理机构上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙);
代理人陶金龙
地址 201203 上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区芳春路400号1幢3层
入库时间 2023-12-17 11:36:58
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-08-28
实质审查的生效 IPC(主分类):H04N5/374 申请日:20200422
实质审查的生效
2020-08-04
公开
公开
机译: 第二次曝光用于支持psm的用途-在打印邻近大型结构的狭窄区域时进行曝光
机译: 光学元件,光学装置,曝光装置和设备生产方法的支持方法和支持结构
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