公开/公告号CN111575063A
专利类型发明专利
公开/公告日2020-08-25
原文格式PDF
申请/专利权人 华东理工大学;
申请/专利号CN202010491367.3
申请日2020-06-02
分类号C10J3/86(20060101);F23M5/08(20060101);
代理机构31283 上海弼兴律师事务所;
代理人薛琦;邹玲
地址 200237 上海市徐汇区梅陇路130号
入库时间 2023-12-17 11:28:35
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-08-25
公开
公开
机译: TRANSALDOLASE,一种用于诊断辐射暴露的标记物,一种用于诊断辐射暴露量度以测量标记物表达水平的组合物,一种用于诊断包含该成分的辐射暴露量的工具包,以及一种用于使用MARKER诊断辐射暴露量的方法
机译: 光化射线敏感或辐射敏感组合物,一种用于纯化光化射线敏感或辐射敏感组合物的方法,一种用于制造光化敏感或辐射敏感组合物的方法,一种形成图案的方法,以及制造电子设备的方法
机译: (54)标题:改善柔性版印刷板的印刷性能的方法(57)摘要:提供了一种由感光印刷坯料制造浮雕图像印刷元件的方法。用激光烧蚀具有设置在至少一个光可固化层上的激光可烧蚀层的光敏印刷坯料,以形成原位掩模。然后通过原位掩模使印刷坯料暴露于至少一种光化辐射源,以选择性地交联和固化可光固化层的部分。空气在至少一个光固化层中的扩散在曝光步骤中受到限制,并且优选在曝光步骤中改变至少一种光化辐射源的光的类型,功率和入射角中的至少一种。所得的浮雕图像包括多个点,并且产生了多个点的点形状,该点形状高度耐受用于在瓦楞纸板上印刷的印刷槽纹。