IC结构、操作IC制造系统的方法和IC布局图生成系统

摘要

操作IC制造系统的方法包括：基于所述单元的时序关键路径，确定单元的n型有源区域还是单元的p型有源区域是第一有源区域，在单元的IC布局图中沿单元高度方向定位第一有源区域，第一有源区域具有在垂直于单元高度方向的方向上延伸的第一总数量的鳍。该方法还包括沿单元高度方向在单元中定位第二有源区域，第二有源区域是与第一有源区域的n型或p型相反的n型或p型，并且具有小于第一的总数量的鳍的第二总数量的鳍，并且在该方向上延伸，并且将所述单元的IC布局图存储在单元库中。本发明的实施例还涉及IC结构和IC布局图生成系统。