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低真空系统持续充入工作气体时的动态压力精确控制系统

摘要

本发明公开了低真空系统持续充入工作气体时的动态压力精确控制系统,包括真空室、真空泵组、真空抽气管道阀门组件、工作气体输入单元、调节气体输入单元、压力测量单元和电气控制单元,真空泵组通过真空抽气管道对真空室抽取真空。工作气体输入单元包括电磁阀Ⅰ、质量流量控制器Ⅰ及工作气体管路,向真空室充入工作气体。调节气体输入单元包括电磁阀Ⅱ、质量流量控制器Ⅱ及调节气体管路,向真空泵组抽气口充入大气。电气控制单元采用PLC控制真空泵组和电磁阀的开/关、设定工作气体充气流量、设定真空室目标压力值,根据压力测量单元反馈的真空室动态压力值,对调节气体充气流量进行PID调整,实现对真空室动态压力的精确控制。

著录项

  • 公开/公告号CN111594446A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-08-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海利方达真空技术有限公司;

    申请/专利号CN202010407037.1

  • 发明设计人 王晓伟;阚存东;李虎;

    申请日2020-05-14

  • 分类号F04C28/24(20060101);F04C25/02(20060101);

  • 代理机构11392 北京卫平智业专利代理事务所(普通合伙);

  • 代理人张新利;谢建玲

  • 地址 201822 上海市嘉定区叶城路1288号6幢J1072室

  • 入库时间 2023-12-17 11:24:22

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-08-28

    公开

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