公开/公告号CN111474188A
专利类型发明专利
公开/公告日2020-07-31
原文格式PDF
申请/专利权人 中国科学院上海光学精密机械研究所;
申请/专利号CN201910069995.X
申请日2019-01-24
分类号G01N23/041(20180101);
代理机构31266 上海一平知识产权代理有限公司;
代理人徐迅;祝莲君
地址 201800 上海市嘉定区清河路390号
入库时间 2023-12-17 10:58:52
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-07-31
公开
公开
机译: 一种制备部分单次电子束曝光掩模的方法和一种使用该部分单次电子束曝光掩模直接绘制图案的方法。
机译: 一种制备部分单次电子束曝光掩模的方法和一种使用部分单次电子束曝光掩模直接绘制图案的方法。
机译: 根据医学成像测量数据重建相位相关断层图像的方法,涉及执行相位相关的迭代图像重建,该重建使用非相位相关的图像量初始化