一种基于两次重叠曝光提高线宽一致性的方法

摘要

本发明公开了一种基于两次重叠曝光提高线宽一致性的方法，属于激光直写曝光技术领域。所述方法通过对图形进行两次不同位置的曝光，两次曝光过程分别对应第一图形和第二图形，第一图形为原始图形对应的数字化图形经过四舍五入的网格化处理后得到的图形，第二图形为原始图形对应的数字化图形根据图形变换参数平移后再经过四舍五入的网格化处理后得到的图形；结合适当的工艺条件，经行两次曝光叠加，本申请提出的方法能够将线宽差距从一个网格减到半个网格，在不改变任何硬件的条件下，减少线宽差异，提高线宽一致性。