首页> 中国专利> 一种增强体二极管的碳化硅功率MOSFET器件

一种增强体二极管的碳化硅功率MOSFET器件

摘要

本发明提出一种增强体二极管的碳化硅功率MOSFET器件,元胞在第一表面为多边形或圆形布局设计,结构包含衬底、源极和漏极,还包括第一N型碳化硅区域,位于衬底上方;与所述第一N型碳化硅区域相邻的JFET区域;第一P型碳化硅区域,位于所述第一N型碳化硅区域上方、JFET区域的一侧;第一源极区域,位于所述第一N型碳化硅区域上方、JFET区域的另一侧;第一隔离栅极区域,位于第一P型碳化硅区域、JFET区域和第一源极区域上方。这种结构能实现在不牺牲MOSFET的工作性能的同时,增强体二极管的导通性能和抗浪涌电流能力,获得器件性能与可靠性之间的优化与平衡。

著录项

  • 公开/公告号CN111446293A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-07-24

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 浙江大学;

    申请/专利号CN202010217839.6

  • 发明设计人 盛况;任娜;郭清;朱郑允;

    申请日2020-03-25

  • 分类号

  • 代理机构杭州裕阳联合专利代理有限公司;

  • 代理人姚宇吉

  • 地址 310000 浙江省杭州市西湖区浙大路38号

  • 入库时间 2023-12-17 10:54:40

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-08-18

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L29/16 申请日:20200325

    实质审查的生效

  • 2020-07-24

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号