半导体热处理设备中加热炉体控制方法、加热炉体及设备

摘要

本发明提供了一种半导体热处理设备中加热炉体控制方法、加热炉体及设备。该方法应用于非对称加热炉体，该非对称加热炉体包括至少一个加热块，加热块的疏加热区与密加热区的加热元件的分布密度和/或电阻不同，且分别独立供电控制；该方法包括：检测疏加热区和密加热区的温度；根据上述温度及预设温度阈值调节至少一个疏加热区，和/或至少一个密加热区的加热功率，以使非对称加热炉体内被加热体的温度均匀。在本发明实施例中，可以独立控制疏加热区和密加热区的加热功率，适应各种不同温度要求，无需添加辅助加热件等设备以及停机更换加热件，可以降低能耗、设备成本，提高生产效率。