一种可改变高斯光能量分布不均的激光熔覆装置及方法

摘要

本发明公开一种可改变高斯光能量分布不均的激光熔覆装置及方法，包括QBH准直系统，分束反射装置，聚焦装置和送粉装置；QBH准直系统设置于分束反射装置的正上方；聚焦装置设置于分束反射装置的侧面；送粉装置的中心与QBH准直系统和分束反射装置的中心处于同一轴线，且设置于分束反射镜下方。经过此技术形成的光斑能量分布均匀，在熔覆当中，熔池宽度与光斑直径非常接近。涂层铺展均匀，结合力得到有效提高。本发明有效解决了因高斯光光斑边缘位能量不足不能形成熔深造成的搭接气孔、裂纹、空洞等严重影响涂层质量的一系列问题。