一种应用于先进控制系统的线宽控制方法

摘要

本发明公开了一种应用于先进控制系统的线宽控制方法，包括如下步骤：设置第1次曝光的原始曝光能量Eexp(1)，并进行曝光；第1次曝光完成之后，计算第1次曝光的实际曝光能量El(1)以及预测曝光能量Ep(1)，且Ep(1)＝E(1)/f(1)；重复步骤S01‑S02，设置第x次曝光的原始曝光能量Eexp(x)等于第x‑1次曝光的预测曝光能量Ep(x‑1)，并进行曝光，再计算第x次曝光的实际曝光能量El(x)以及预测曝光能量Ep(x)；直至完成整个曝光过程；其中，E(x)表示采用平均方法计算出的初始预测曝光能量，f(x)为单调递增的调整公式，f(x)∈(0,1)，且随着x的增大，f(x)趋近于1。本发明通过对平均方法的修正，减少线宽控制过程中初始时期的偏差，在早期获得更好的曝光能量预测，使曝光后的晶圆更快的达到线宽标准。