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关闭机构真空腔室隔离装置和子系统

摘要

本公开总体涉及一种用于处理系统中的隔离装置。所述隔离装置包括主体,所述主体具有从中穿过而形成的流孔。在一个实施方式中,所述隔离装置设置在远程等离子体源与工艺腔室之间。关闭机构可枢转地设置在所述主体内。所述关闭机构可以被致动以启用或禁用在所述远程等离子体源与所述工艺腔室之间的流体连通。在一个实施方式中,所述关闭机构包括轴和耦接到所述轴的密封板。横臂耦接到与所述密封板相对的所述轴。所述横臂被配置为选择性地旋转所述关闭机构的所述轴和所述密封板。

著录项

  • 公开/公告号CN111164730A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-05-15

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 应用材料公司;

    申请/专利号CN201880063210.1

  • 发明设计人 T·A·恩古耶;

    申请日2018-09-28

  • 分类号H01J37/32(20060101);

  • 代理机构31100 上海专利商标事务所有限公司;

  • 代理人侯颖媖;张鑫

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2023-12-17 09:38:14

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-05-15

    公开

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