首页> 中国专利> 优化测量照射光斑相对于衬底上的目标的位置和/或尺寸的方法和相关设备

优化测量照射光斑相对于衬底上的目标的位置和/或尺寸的方法和相关设备

摘要

披露了一种在检查设备内优化测量照射光斑相对于衬底上的目标的位置和/或大小(以及因此聚焦)的方法。所述方法包括:针对所述照射光斑相对于所述目标的不同大小和/或位置,检测因照射所述目标而产生的来自至少所述目标的散射辐射;以及基于所检测到的散射辐射的特性,针对所述照射光斑相对于所述目标的不同大小和/或位置,优化所述测量照射光斑相对于所述目标的位置和/或大小。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-06-23

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/20 申请日:20180919

    实质审查的生效

  • 2020-05-29

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号