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一种采用FACT校正技术测定镍基高温合金中微量硅的ICP-OES分析方法

摘要

本发明提供一种采用FACT校正技术测定镍基高温合金中微量硅的ICP‑OES分析方法,包括:将镍基高温合金样品进行微波消解后获得的样品溶液,进行电感耦合等离子体发射光谱法检测,采用标准曲线法进行定量,根据FACT校正模型对标准曲线进行校正,获得样品溶液中硅元素的含量。本发明提供的一种采用FACT校正技术测定镍基高温合金中微量硅的ICP‑OES分析方法,能够解决微量硅的测定结果偏差较大这一技术难题,相比现有技术采用的IEC校正方法,避免了耗时而繁琐的干扰因子的计算,测定效率更高。

著录项

  • 公开/公告号CN110987906A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-04-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海电气电站设备有限公司;

    申请/专利号CN201911294457.7

  • 发明设计人 张颖;史文斌;李虹;

    申请日2019-12-16

  • 分类号

  • 代理机构上海光华专利事务所(普通合伙);

  • 代理人许亦琳

  • 地址 201108 上海市闵行区莘庄工业区金都路3669号3幢

  • 入库时间 2023-12-17 08:17:21

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-05-05

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01N21/73 申请日:20191216

    实质审查的生效

  • 2020-04-10

    公开

    公开

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