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公开/公告号CN111087341A
专利类型发明专利
公开/公告日2020-05-01
原文格式PDF
申请/专利权人 浙江华显光电科技有限公司;华东理工大学;
申请/专利号CN202010016014.8
发明设计人 濮伟雯;许胜;黄相丞;李婉齐;龚成林;严沛钧;张奕祺;张杰;
申请日2020-01-08
分类号
代理机构
代理人
地址 314107 浙江省嘉兴市嘉善县干窑镇庄驰中路58号4幢
入库时间 2023-12-17 07:47:18
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-05-29
实质审查的生效 IPC(主分类):C07D209/88 申请日:20200108
实质审查的生效
2020-05-01
公开
机译: 衍生自席夫夫碱的有机基荧光化合物,该基以苯基为电子给体。
机译: 一种制备不饱和或多种不饱和ete优先醛或其缩醛,酰基,肟,,半咔唑或席夫碱的方法
机译: 衍生自席夫碱的有机基荧光化合物,其中萘基为电子供体。
机译:一种新型咔唑基席夫碱作为荧光化学传感器,用于选择性检测Fe〜(3+)和Cu〜(2+)
机译:咔唑基席夫碱作为荧光Fe $ ^ {3 +} $探针的实验和理论研究
机译:一种简单的基于咔唑的席夫碱作为荧光“关闭”探针,可选择性地识别水溶液中的Cu 2 + sup>
机译:取代基基团对某些席夫夫碱对锌在硫酸中腐蚀的抑制作用
机译:席夫夫碱及其锌(II)配合物的研究:I.维生素B Sub 6化合物的平衡和氨基转移率。二。水杨醛席夫酸酯基的跃迁动力学
机译:具有2-羟基5-甲基间苯二甲醛和组胺或2-(2-氨基乙基)吡啶的席夫碱的双核铜(II)配合物及其在薄膜沉积中的磁性和荧光材料应用
机译:九种新型咔唑基二酰基hydr席夫碱的合成与发光性质
机译:使用席夫碱聚合物基质的高温复合材料