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提高Ge-As-Se硫系玻璃光学表面质量的化学机械加工方法

摘要

本发明公开了一种提高Ge‑As‑Se硫系玻璃光学表面质量的化学机械加工方法,其包括以下步骤:第一步:研磨,研磨包括粗磨和精磨,通过粗磨对硫系玻璃光学表面进行初成形和面形修整,以达到指标要求;精磨采用化学机械研磨方法,进一步修整光学表面面形并降低表面粗糙度;第二步:抛光,抛光包括粗抛和精抛,通过粗抛对精磨面进行逐道抛光;精抛采用化学机械抛光方法,得到最终符合要求的硫系玻璃光学表面面形。本发明通过将粗磨、精磨、粗抛、精抛有序的结合起来,显著提高了硫系玻璃光学表面的加工效率和表面质量。

著录项

  • 公开/公告号CN111015432A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-04-17

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 天津津航技术物理研究所;

    申请/专利号CN201911169227.8

  • 申请日2019-11-26

  • 分类号B24B13/00(20060101);B24B37/04(20120101);C09G1/02(20060101);

  • 代理机构11011 中国兵器工业集团公司专利中心;

  • 代理人刘二格

  • 地址 300308 天津市东丽区空港经济区中环西路58号

  • 入库时间 2023-12-17 07:38:45

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-05-12

    实质审查的生效 IPC(主分类):B24B13/00 申请日:20191126

    实质审查的生效

  • 2020-04-17

    公开

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