一种镧系氟化物多孔纳米片填充的混合基质膜及其制备方法与应用

摘要

本发明公开了一种镧系氟化物二维多孔纳米片填充的混合基质膜，包括如下质量分数的组分：镧系氟化物二维多孔纳米片0.5％～30％，以及聚氧乙烯基高分子70％～99.5％；镧系氟化物二维多孔纳米片为分散相，聚氧乙烯基高分子为连续相。其中，镧系氟化物二维多孔纳米片是一种新型的纳米材料，将镧系氟化物二维多孔纳米片作为填充剂制备高分子‑无机混合基质膜，能够改善高分子‑无机混合基质膜的实际使用性能。