法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-02-11
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/67 申请日:20180511
实质审查的生效
2020-01-10
公开
公开
机译: 真空处理系统的负载锁定腔室,用于在连续过程中处理基板,包括与腔室盖互连的腔室壁形成腔室容器,该腔室盖用于传输基板
机译: 具有缓冲腔室的负载锁定腔室和用于处理包括该腔室的基板的设备
机译: 用于鞋类的缓冲装置,具有可变容积的腔室,该腔室具有用于产生缓冲效果并吸收使用者施加的载荷的弹性部件,并且具有用于产生吹气效果的孔或管。