法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-04-21
实质审查的生效 IPC(主分类):C21D1/26 申请日:20191230
实质审查的生效
2020-03-27
公开
公开
机译: 在带退火炉的金属带上形成横向弯曲的方法以及使用一种在带退火炉的金属带上形成横向弯曲的设备的使用
机译: 对包括非晶态金属闭环的类型的磁芯进行退火的方法以及用于执行该方法的设备
机译: 通过溅射金属沉积,金属离子注入或硅注入和激光退火为CMOS设备生产双门(一种金属和一种多金属或金属硅化物)的方法