磁体组件、包括该磁体组件的装置和方法

摘要

公开了磁体组件、包括该磁体组件的装置和方法，该磁体组件用于在脉冲DC物理气相沉积过程期间使在基板上形成材料层时使用的离子转向。所述装置和方法包括用于控制经由脉冲DC物理气相沉积形成的材料层的厚度变化的组件。磁体组件包括用于产生靠近基板的磁场的磁场产生装置，和用于使离子转向磁场产生装置相对于基板围绕旋转轴线旋转的装置。磁场产生装置包括多个磁体，所述多个磁体被配置成围绕旋转轴线延伸的阵列，其中，磁体阵列被配置成沿着相对于旋转轴线的径向方向产生变化的磁场强度。