公开/公告号CN110749923A
专利类型发明专利
公开/公告日2020-02-04
原文格式PDF
申请/专利号CN201810816356.0
申请日2018-07-24
分类号G01V1/28(20060101);G01V1/32(20060101);G01V1/34(20060101);
代理机构11372 北京聿宏知识产权代理有限公司;
代理人吴大建;何娇
地址 100728 北京市朝阳区朝阳门北大街22号
入库时间 2023-12-17 06:13:26
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-02-28
实质审查的生效 IPC(主分类):G01V1/28 申请日:20180724
实质审查的生效
2020-02-04
公开
公开
机译: 基于光强度传递方程的环形辐射高分辨率定量相微观方法
机译: 基于光强传递方程的环形辐射高分辨率相微成像方法
机译: 涂层基质,一种光致抗蚀剂图像形成方法以及一种防反光的组合物,该组合物可以与过量涂层的光致抗蚀剂组合使用,从而可以提高图案化的光致抗蚀剂图像的分辨率