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一种测量光学带隙的方法和系统

摘要

本发明提供了一种测量光学带隙的方法和系统,包括采用椭偏仪对待测样品进行测量获得椭偏数据测量值;对椭偏数据进行建模及拟合计算,判断拟合计算得到的拟合值是否接近测量值,若是,利用拟合所得色散方程参数反推计算,获得待测样品的折射率和消光系数随波长变化的色散曲线;根据色散曲线以及吸收系数公式获得待测样品的吸收系数;根据吸收系数和Tauc公式求出待测样品的光学带隙。由于椭偏仪具有测量精度高、对衬底材料透明度没有要求的特点,因此,不仅能够精确地实现光学带隙的测量,而且能够极大地拓展光学带隙测量的适用范围,尤其针对不透明衬底或单面抛光衬底上的薄膜材料、不透明材料、多层或复杂膜结构材料等具有良好的测量效果。

著录项

  • 公开/公告号CN110687052A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-01-14

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学技术大学;

    申请/专利号CN201911018525.7

  • 发明设计人 温晓镭;

    申请日2019-10-24

  • 分类号G01N21/21(20060101);G01N21/31(20060101);G16C60/00(20190101);G06F30/20(20200101);

  • 代理机构11227 北京集佳知识产权代理有限公司;

  • 代理人杨华

  • 地址 230026 安徽省合肥市包河区金寨路96号

  • 入库时间 2023-12-17 06:09:10

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-02-11

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01N21/21 申请日:20191024

    实质审查的生效

  • 2020-01-14

    公开

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