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一种测量杂质弹丸大小及注入频率的方法及装置

摘要

本发明提供了一种测量杂质弹丸大小及注入频率的方法及装置,其中,该方法将利用杂质弹丸对激光的遮挡,监测激光信号的变化,从而可以得出弹丸的直径及弹丸实时注入的频率。该方法后期数据处简单,且能够在实时给出可靠数据,后期可以将该数据作为杂质弹丸触发的反馈信号,对弹丸实施反馈注入,由此达到注入频率均一的目的。同时对杂质弹丸注入无任何附加影响、实现简单、操作步骤少,易于在聚变装置中的推广应用。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-03-20

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01D21/02 申请日:20191119

    实质审查的生效

  • 2020-02-25

    公开

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