法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-02-25
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):B08B3/10 授权公告日:20160406 终止日期:20190226 申请日:20130226
专利权的终止
2016-04-06
授权
授权
2014-09-24
实质审查的生效 IPC(主分类):B08B3/10 申请日:20130226
实质审查的生效
2014-08-27
公开
公开
机译: 基板清洗设备,包括该基板清洗设备的基板处理系统以及使用该基板清洗设备制造半导体装置的方法
机译: 清洗对象物保持器,清洗对象物保持装置,清洗设备以及使用该清洗对象物的清洗方法
机译: 清洗对象物保持器,清洗对象物保持装置,清洗设备以及使用该清洗对象物的清洗方法