公开/公告号CN101988189B
专利类型发明专利
公开/公告日2012-10-10
原文格式PDF
申请/专利权人 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司;
申请/专利号CN200910305378.1
发明设计人 裴绍凯;
申请日2009-08-07
分类号
代理机构
代理人
地址 518109 广东省深圳市宝安区龙华镇油松第十工业区东环二路2号
入库时间 2022-08-23 09:11:23
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2016-09-28
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C23C 14/35 授权公告日:20121010 终止日期:20150807 申请日:20090807
专利权的终止
2012-10-10
授权
授权
2012-01-18
实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 14/35 申请日:20090807
实质审查的生效
2011-03-23
公开
公开
机译: 磁控溅射装置的靶组件,磁控溅射装置和使用磁控溅射装置的方法
机译: 控制磁控溅射装置的装置和方式无效,该磁控溅射装置对暴露于单独放电的靶具有单独的磁场关闭
机译: 磁控溅射装置,背板,靶组件及磁控溅射方法