法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2016-08-17
授权
授权
2014-04-02
实质审查的生效 IPC(主分类):G02B1/11 申请日:20120830
实质审查的生效
2014-03-05
公开
公开
机译: 精细图案的母版的形成方法和光学存储元件的制造方法,以及母版的光学存储元件,压模的光学存储元件和光学存储元件
机译: 等离子体刻蚀系统,用于使用同一模具形成光学元件的模具的制造方法,用于形成光学元件的模具,用于形成光学元件的模具的制造方法,用于制造光学元件的方法以及光学元件
机译: 光学玻璃,用于压模的玻璃材料,光学元件,用于压模的玻璃材料的制造方法以及光学元件的制造方法