长寿花的催花方法

摘要

本发明属于植物栽培技术领域，特别是长寿花的催花方法技术领域。在长寿花生长到一个月以前光照时间长于14小时，长寿花生长到一个月开始进行短日照处理，即光照时间短于14小时，并摘心，用2000ppm的矮壮素的水溶液和B93000ppm液，每一星期施用一次。采用品氏1号基质土和珍珠岩混合比例为8:1（体积比），温度控制在20-22℃，湿度控制在85%以上的栽培方法。本发明的优点是：对长寿花的生长发育有明显的积极作用，尤其在对长寿花的花朵高度和数量上，提高了长寿花的观赏价值。

说明书

技术领域

本发明属于植物栽培技术领域，尤其是涉及一种长寿花的催花方法。

背景技术

长寿花（Kalanchoe blossfeldiana cv tom Thumb）别名寿星花、假川莲、 圣诞伽蓝菜、矮生伽蓝菜。属景天科，伽蓝菜属。一种多肉植物，由肥大、 光亮的叶片形成的低矮株丛终年翠绿。每一花枝上可多达数十朵花，花期长 达4个多月，长寿花之名由此而来。长寿花喜温暖，要求较高的湿度。现有 的长寿花的栽培方法是：采用扦插法繁殖，温度控制在20～22℃，湿度控制 在85%以上，每一个星期施一次花多多1号1000倍液，栽培基质采用品氏 1号和珍珠岩混合比例为8:1（体积比）。常用的长寿花催花技术为在种苗从 生长期开始，用花多多10号和花多多1号每两个星期轮替施用一次，这种 方法催出的花朵少，并且花朵也较小，观赏不美观，品质不佳。

其中，花多多10号(30-10-10)肥料配方：（以下百分比为重量∕重量 百分比）全氮含量为30%（其中硝态氮含量3.31%，铵态氮含量2.06%，尿 素态氮含量为24.62%），水溶性磷酐含量为10%，水溶性氧化钾含量为10%， 水溶性氧化镁含量为0.05%，硼含量为0.0068%，螯合态铜含量为0.0036%， 螯合态铁含量为0.05%，螯合态锰含量为0.024%，螯合态锌含量为0.0022%， 钼含量为0.0009%。

花多多1号(20-20-20)肥料配方：（以下百分比为重量∕重量百分比） 全氮含量为20%（其中硝态氮含量6.11%，铵态氮含量3.89%，尿素态氮含 量为10%），水溶性磷酐含量为20%，水溶性氧化钾含量为20%，水溶性氧 化镁含量为0.05%，硼含量为0.0068%，螯合态铜含量为0.0036%，螯合态 铁含量为0.05%，螯合态锰含量为0.025%，螯合态锌含量为0.0025%，钼含 量为0.0009%。

发明内容

本发明旨在克服现有技术的不足，提供一种长寿花的催花方法，用以增 加花朵的形成数量，进而提高观赏价值。

一种长寿花的催花方法，其特征在于，在长寿花生长到一个月以前光照 时间长于14小时，长寿花生长到一个月开始进行短日照处理，即光照时间 短于14小时，并摘心，用2000ppm的矮壮素的水溶液和B9 3000ppm液， 每一星期施用一次。

与现有技术相比，本发明的优点是：对长寿花的生长发育有明显的积极 作用，尤其在对长寿花的花朵高度和数量上，提高了长寿花的观赏价值。

具体实施方式

为了理解本发明，下面通过具体的实施例对本发明作进一步说明。

本实验分为发明组和对照组，每组处理500株长寿花种苗，当种苗生长 到一月时开始短日照处理（之前光照时间长于14小时），摘心，用2000ppm 的矮壮素的水溶液和B93000ppm液，每一星期施用一次。采用品氏1号基 质土和珍珠岩混合比例为8:1（体积比），温度控制在20～22℃，湿度控制 在85%以上的栽培方法。

实施例一：（发明组）：当种苗生长到一月时开始短日照处理（之前光 照时间长于14小时），摘心，用2000ppm的矮壮素的水溶液和B93000ppm 液，每一星期施用一次。采用品氏1号基质土和珍珠岩混合比例为8:1（体 积比），温度控制在20～22℃，湿度控制在85%以上的栽培方法。

（对照组）：从种苗开始，不对种苗采取短日照处理，用2000ppm的 矮壮素的水溶液和B93000ppm液，每一星期施用一次。

两组均采用上述方法栽培长寿花，经过80天的培养，观测植株，每组 处理取平均数后，记录各处理的花朵数量以及花朵的大小。

实施例二：（发明组）：当种苗生长到一月时开始短日照处理（之前光 照时间长于14小时），摘心，用2000ppm的矮壮素的水溶液和B93000ppm 液，每一星期施用一次。

（对照组）：从种苗开始，不对种苗采取短日照处理，用2000ppm的 矮壮素的水溶液和B93000ppm液，每一星期施用一次。

两组均采用上述方法栽培长寿花，经过80天的培养，观测植株，每组 处理取平均数后，记录各处理的花朵数量以及花朵的大小。

经过80天的培养，观测植株，每组处理取平均数后，记录各处理的花 朵数量以及花朵的高度，记录结果如下：

本发明不局限于上述最佳实施方式，任何人在本发明的启示下得出的其 他任何与本发明相同或相近似的产品，均落在本发明的保护范围之内。