法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2015-12-09
发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):B01J23/745 申请公布日:20131030 申请日:20120416
发明专利申请公布后的视为撤回
2013-10-30
公开
公开
机译: 制造Ferrosilicon的费用
机译: 本申请要求于2010年11月1日提交的名称为“ DRYETCHINGMETHODFURRFACETEXFORMATIONIONSILICONWAFER”的美国临时专利申请No.61 / 409,064的权益,其标题为:其全部内容通过引用结合于此。
机译: 多晶硅片POLYCRYSTALLINE SILICON WAFER