气化原料供给装置、基板处理装置及气化原料供给方法

摘要

本发明提供气化原料供给装置、基板处理装置及气化原料供给方法。气化原料供给装置能够提高载气中的液体原料的蒸气的饱和度。利用气化原料供给装置解决上述课题，气化原料供给装置包括：贮存罐，其用于贮存液体原料；第1温度控制部，其用于将贮存罐控制在第1温度；载气导入管，其用于向贮存罐内导入载气；处理气体导出管，其连接于贮存罐，用于使处理气体从贮存罐流出，处理气体通过在载气中含有液体原料的蒸气而生成；容器，其包括用于连接处理气体导出管的流入口、供从流入口流入的处理气体流出的流出口；障碍构件，其设置在容器内的流入口与流出口之间，用于阻碍处理气体的流动；第2温度控制部，其用于将容器控制在比第1温度低的第2温度。