首页> 中国专利> 包括含分散的具有不同折射指数的区域的物体的抗反射层的光生伏打装置

包括含分散的具有不同折射指数的区域的物体的抗反射层的光生伏打装置

摘要

本发明涉及光生伏打装置,所述装置包含:当经受电磁辐射时能确保光生伏打效应的半导体材料;对于所述电磁辐射可穿透以确保光生伏打效应的抗反射层,该抗反射层含有在分散状态下尺寸小于5微米优选小于2微米的物体,所述物体包含至少两个由两种不同的基材组成的区域,所述基材对于所述电磁辐射可穿透并且具有不同的折射指数,即:(i)具有第一折射指数n

著录项

  • 公开/公告号CN102959716A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2013-03-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 保利瑞斯公司;

    申请/专利号CN201180023799.0

  • 发明设计人 V·高迪;M·卢阿恩;F·汝热;

    申请日2011-03-23

  • 分类号H01L31/0216;H01L31/048;C03C17/00;C08F292/00;C08L51/10;C09D7/12;G02B1/11;C23C18/12;

  • 代理机构北京润平知识产权代理有限公司;

  • 代理人王凤桐

  • 地址 法国佩萨克

  • 入库时间 2024-02-19 17:57:55

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2015-12-09

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H01L31/0216 申请公布日:20130306 申请日:20110323

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2013-04-03

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L31/0216 申请日:20110323

    实质审查的生效

  • 2013-03-06

    公开

    公开

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