等离子体控制装置、流量控制装置及流量控制用方法

摘要

本发明提供等离子体控制装置、流量控制装置及流量控制用方法，即使应导入真空室内的导入气体的流量值大，也能在所述流量值附近的狭窄区间内高速地控制流量，例如能将真空室内的等离子体持续保持在所希望的状态，能维持用于成膜等的最佳状态。等离子体控制装置包括：第一阀，设在第一流路上，导入真空室内的导入气体流过第一流路；第一阀控制部，控制第一阀的开度，使得经由第一阀导入真空室内的导入气体的流量成为第一流量；等离子体监测器；第二阀，设于导入气体流过的第二流路上；第二阀控制部，根据由等离子体监测器测量到的测量等离子体强度与预先设定的设定等离子体强度的偏差，对第二阀的开度进行控制。