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通过冷却剂流量控制及加热器任务周期控制的组件温度控制

摘要

公开了在等离子体处理腔室中控制温度的方法和系统,用于大范围设定温度及减少能量消耗。冷却液回路与热源之间的温度控制由控制算法协调,该控制算法由等离子体处理模块控制器实施。该控制算法可响应于指示实际温度低于设定温度的反馈信号,而完全停止冷却液流入温度受控组件。该控制算法还可在工艺配方执行期间至少部分基于前馈控制信号,该前馈控制信号源自输入到该处理腔室中的等离子体功率或等离子体功率变化。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-02-15

    授权

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  • 2013-05-08

    实质审查的生效 IPC(主分类):H05H1/24 申请日:20110520

    实质审查的生效

  • 2013-01-30

    公开

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