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用于磁约束聚变装置中的双膜软X射线荧光高速成像系统

摘要

本发明提供了一种用于磁约束聚变装置中的双膜软X射线荧光高速成像系统,包括:探测器和高速可见光相机;其中,所述探测器包括:探测器腔体;小孔,设于所述探测器腔体的第一端部;薄膜,设于所述小孔上;微通道板MCP,被置于所述探测器腔体内,并且面对所述小孔;荧光屏,被置于所述探测器腔体内,并且面对所述微通道板MCP;成像时,软X射线穿透所述小孔,透过所述薄膜,照射在所述微通道板MCP上,软X射线经过所述微通道板MCP后到达所述荧光屏上,所述荧光屏上的可见光射出所述探测器腔体,而后聚焦到所述高速可见光相机上。本发明提高了X射线探测成像的速度,并且可获得软X射线的辐射剖面和温度信息。

著录项

  • 公开/公告号CN110596743A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-12-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学技术大学;

    申请/专利号CN201910938104.X

  • 发明设计人 张森;兰涛;毛文哲;

    申请日2019-09-30

  • 分类号

  • 代理机构中科专利商标代理有限责任公司;

  • 代理人汤宝平

  • 地址 230026 安徽省合肥市包河区金寨路96号

  • 入库时间 2024-02-19 16:49:45

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-01-14

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01T1/29 申请日:20190930

    实质审查的生效

  • 2019-12-20

    公开

    公开

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