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一种具备低密度耐腐蚀特征且铸造用的藏银合金及其工艺

摘要

本发明公开了一种具备低密度耐腐蚀特征且铸造用的藏银合金及其工艺。按照重量百分比,该合金的成分为:B:0.2‑0.3wt.%,Li:5.0‑6.0wt.%,Ge:5.0‑8.0wt.%,Te:0.3‑0.5wt.%,Mg:30.0‑40.0wt.%,Cr:4.0‑6.0wt.%,Ag:29.0‑31.0wt.%,余量为铜。该材料为我国藏银合金提供了一种材料学的解决方案,该合金具备了轻量化的特性,而且该合金具有优异的铸造性能。该材料的实施和产业化可以有效的推动我国首饰行业产品更新和行业升级的需求。

著录项

  • 公开/公告号CN110484800A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-11-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 广州宇智科技有限公司;

    申请/专利号CN201810938594.9

  • 发明设计人 杨长江;

    申请日2018-08-17

  • 分类号

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 511340 广东省广州市增城区新塘镇友谊一横街1号(办公楼)第五层5010-2室

  • 入库时间 2024-02-19 15:39:38

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-12-17

    实质审查的生效 IPC(主分类):C22C30/02 申请日:20180817

    实质审查的生效

  • 2019-11-22

    公开

    公开

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