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图案形成装置及其制造方法和图案形成装置的设计方法

摘要

一种图案形成装置(100),包括:在图案形成装置基板(102)上的吸收体层(106);和在图案形成装置基板上的反射层或透射层(104),其中吸收体层和反射层或透射层一起限定具有主要特征(112)和与主要特征配对的衰减式亚分辨率辅助特征(110)的图案布局,其中:所述主要特征被配置成在将所述器件图案转印到衬底上的图案形成材料的层时,在所述图案形成材料的层中产生所述主要特征,和在将图案转印到图案形成材料的层时,衰减式亚分辨率辅助特征被配置成避免在图案形成材料的层中生成特征,并且产生与主要特征不同的辐射强度。

著录项

  • 公开/公告号CN110366702A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-10-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 ASML荷兰有限公司;

    申请/专利号CN201880014080.2

  • 发明设计人 段福·史蒂芬·苏;刘晶晶;

    申请日2018-02-20

  • 分类号

  • 代理机构中科专利商标代理有限责任公司;

  • 代理人王静

  • 地址 荷兰维德霍温

  • 入库时间 2024-02-19 15:21:16

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-11-15

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F1/24 申请日:20180220

    实质审查的生效

  • 2019-10-22

    公开

    公开

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