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一种高温高发射率红外辐射涂层材料体系及其制备方法

摘要

本发明公开了一种高温环境下使用(800℃)的高发射率红外辐射涂层材料体系的制备方法,属于无机材料领域,本发明采用氧化硅为基料,氧化铬为主要辐射剂,氧化钛为高辐射添加剂,经低能球磨混合工艺使原料充分混合均匀,经喷雾干燥造粒工艺制备适合等离子喷涂工艺的成品粉末,最后经等离子喷涂工艺在复合材料面板上制备高发射率红外辐射涂层。本发明SiO2‑Cr2O3‑TiO2涂层体系既具有较高发射率,又具有高抗热震性能的红外辐射性能,采用的制备工艺成熟,生产效率高,本发明的原料来源广泛,配制容易,操作简单,有望在工业领域大规模生产,应用前景广阔。

著录项

  • 公开/公告号CN110512165A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-11-29

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国人民解放军国防科技大学;

    申请/专利号CN201910868638.X

  • 发明设计人 向阳;曹峰;刘荣军;彭志航;

    申请日2019-09-16

  • 分类号C23C4/134(20160101);C23C4/10(20160101);B02C17/10(20060101);B02C17/18(20060101);B02C17/20(20060101);B01D1/18(20060101);B01J2/04(20060101);

  • 代理机构43225 长沙国科天河知识产权代理有限公司;

  • 代理人邱轶

  • 地址 410073 湖南省长沙市开福区德雅路109号

  • 入库时间 2024-02-19 15:16:43

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-12-24

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C4/134 申请日:20190916

    实质审查的生效

  • 2019-11-29

    公开

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