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对准衍射光学系统的方法和衍射光学元件

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一种将待操作的衍射光学系统与操作束对准的方法，所述方法包括：使用具有与操作束不同的波长范围的对准束并使用被优化(552)以在同一(或预定的)方向上衍射对准束和操作束的衍射光学元件来对准(558)衍射光学系统。在示例中，所述对准束包括红外(IR)辐射，所述操作束包括软X射线(SXR)辐射。通过向衍射光学元件提供具有第一节距(pIR)的第一周期性结构和具有第二节距(pSXR)的第二周期性结构来优化所述衍射光学元件。在对准之后，抽空(562)真空系统并且在操作中，通过由IR对准束的光源泵浦的高次谐波产生(HHG)光源来产生(564)SXR操作束。

著录项

公开/公告号CN110312968A

专利类型发明专利
公开/公告日2019-10-08

原文格式PDF
申请/专利权人 ASML荷兰有限公司;
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申请/专利号CN201880012492.2
发明设计人 S·B·罗博尔;S·G·J·马西森;S·M·B·鲍默;
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申请日2018-01-25
分类号G03F7/20(20060101);G01B11/00(20060101);G02B5/18(20060101);G11B7/1353(20060101);
代理机构11021 中科专利商标代理有限责任公司;
代理人王静
地址荷兰维德霍温
入库时间 2024-02-19 14:30:36

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2019-11-01

实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/20 申请日:20180125

实质审查的生效
2019-10-08

公开

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